De K&F Concept Nano-C HMC UV-filter is een onmisbaar accessoire voor fotografen die waarde hechten aan de bescherming van hun apparatuur en de verbetering van de beeldkwaliteit. Deze UV-filter met een diameter van 67 mm biedt niet alleen effectieve bescherming tegen stof, vuil en mechanische beschadigingen, maar vermindert ook reflecties en schitteringen. Het gebruik van hoogwaardig Japans optisch glas in combinatie met een 18-laags HMC-coating zorgt voor een heldere en contrastrijke beeldweergave. Het ultradunne frame met een dikte van slechts 3,3 mm minimaliseert het risico op vignettering, wat vooral voordelig is bij groothoekopnamen. Bij de levering is ook een praktische kunststof koffer inbegrepen, die de filter tijdens transport beschermt en veilige opslag mogelijk maakt. Deze filter is ideaal voor landschapsfotografie, omdat hij atmosferische nevel effectief verwijdert en de beeldkwaliteit verbetert.

• Compatibel met 67-mm schroefdraad
• Bescherming tegen stof, vuil en vingerafdrukken
• Vermindert de effecten van UV-straling
• Ideaal voor landschapsfotografie om atmosferische nevel te verwijderen
• Gemaakt van hoogwaardig Japans optisch glas met 18-laags HMC-coating.